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清洗多效蒸餾水機的兩種方法

更新時間:2018-08-28      瀏覽次數:2185

    多效蒸餾水機所生產的蒸餾水,*現行美國藥典、歐洲藥典、日本藥典和中國藥典中關于注射用水的要求,是以去離子水為原料水,用蒸汽加熱的蒸餾水生產設備。該設備所生產的蒸餾水水質穩(wěn)定,純度高,無熱原。是目前應用廣泛的注射用水制備系統的關鍵設備。多效蒸餾水機采用高溫高壓操作,確保穩(wěn)定生產無熱原注射用水。多效蒸餾水機所生產的蒸餾水,*現行美國藥典、歐洲藥典、日本藥典和中國藥典中關于注射用水的要求。
    清洗多效蒸餾水機的兩種方法如下:
  1、對鍋爐水垢,可用氨基磺酸(NH2SO2OH),使用時用去離子水配制成濃度為1%的清洗溶液,其PH值在所1~2之間,并加熱到60℃左右。也可用磷酸(H3PO4),使用時用去離子水配制成2%濃度的清洗溶液,并加熱到65℃左右。
  2、對二氧化硅水垢,可采用二氟化銨(NH4HF2),使用時用去離子水配制成濃度為1.5%的溶液,并加熱到50℃~60℃。也可采有用氫氧化鈉+陰離子活性劑,配制成濃度為10%的清洗液,并加熱到60℃左右。

    水垢的種類及對應的清洗劑:
  多效蒸餾水機中產生的水垢主要有兩種,一種是鍋爐水垢,另一種是二氧化硅水垢,清洗時應采用不同的清洗劑:
  1、對鍋爐水垢,可用氨基磺酸(NH2SO2OH),使用時用去離子水配制成濃度為1%的清洗溶液,其PH值在所1~2之間,并加熱到60℃左右。也可用磷酸(H3PO4),使用時用去離子水配制成2%濃度的清洗溶液,并加熱到65℃左右。
  2、對二氧化硅水垢,可采用二氟化銨(NH4HF2),使用時用去離子水配制成濃度為1.5%的溶液,并加熱到50℃~60℃。


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